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          • 1200℃預加熱滑動雙溫區PECVD系統
            時間:2023-05-09生產地址:天津廠商性質:生產廠家瀏覽量:19341

            PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。

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          • 1200℃滑動雙溫區PECVD系統
            時間:2023-07-24生產地址:天津廠商性質:生產廠家瀏覽量:6642

            PECVD系統配置:1.1200度開啟式雙溫區真空管式爐2.等離子射頻電源3.多路質量流量控制系統4.真空系統(可選配中真空或高真空)

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          • 1200℃集成型自動小型PECVD系統
            時間:2023-07-24生產地址:天津廠商性質:生產廠家瀏覽量:3940

            PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。集成型PECVD系統PECVD-12IH-500A、1200℃小型PECVD系統PECVD-12IH-4Z/G

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          • 1200度小型PECVD系統
            時間:2023-07-24生產地址:天津廠商性質:生產廠家瀏覽量:5843

            PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。集成型PECVD系統PECVD-12IH-500A、1200℃小型PECVD系統PECVD-12IH-4Z/G

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