您好,歡迎進(jìn)入天津中環(huán)電爐股份有限公司網(wǎng)站!
一鍵分享網(wǎng)站到:
產(chǎn)品中心Products 當前位置: 首頁(yè)> 產(chǎn)品中心> 系統設備 > CVD系統 > CVD系統

CVD系統

更新時(shí)間: 2024-05-09

訪(fǎng)問(wèn)次數: 11825

產(chǎn)品報價(jià):

產(chǎn)品簡(jiǎn)介: CVD系統系周期作業(yè),供企業(yè)實(shí)驗室,大專(zhuān)院校,科研院所等單位選用,設備為用戶(hù)提供具體真空、可控氣氛及高溫的實(shí)驗環(huán)境,應用在半導體,納米技術(shù),碳纖維等新材料新工藝領(lǐng)域。

詳細資料:

CVD系統適用領(lǐng)域:

    CVD系統設備由沉積溫度控件、沉積反應室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據用戶(hù)需要設計生產(chǎn),除了主要應用在碳納米材料制備行業(yè)外,現在正在使用在許多行業(yè),包括納米電子學(xué)、半導體、光電工程的研發(fā)、涂料等領(lǐng)域 。

    CVD成長(cháng)系統是利用氣態(tài)化合物或化合物的混合物在基體受熱面上發(fā)生化學(xué)反應,從而在基體表面上生成不揮發(fā)涂層的一種薄膜材料制備系統。

CVD系統產(chǎn)品的特點(diǎn):
    1.兼容、常壓、微正壓多種主流的生長(cháng)模式
    2.可以在1000Pa-0.1Pa之間任意氣壓下進(jìn)行石墨烯的生長(cháng)
    3.使用計算機控制,可以設置多種生長(cháng)參數
    4.可以制備高質(zhì)量,大面積石墨烯等碳材料,尺寸可達數厘米,研究動(dòng)力學(xué)過(guò)程
    5. 沉積效率高;薄膜的成分可控,配比范圍大;厚度范圍廣,由幾百埃至數毫米,可以實(shí)現厚膜沉積且能大量生產(chǎn)

產(chǎn)品用途:

此款CVD系統適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控

生長(cháng)、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結真空淬火退火,快速降溫等工藝實(shí)驗。

產(chǎn)品組成:

配置:

1.1200度開(kāi)啟式真空管式爐(可選配多溫區)。

2.滑動(dòng)系統分為手動(dòng)、電動(dòng)滑動(dòng),并配有風(fēng)冷系統。

3.多路質(zhì)量流量控制系統

4.真空系統(可選配中真空或高真空)    




控制電路選用模糊PID程控技術(shù),該技術(shù)控溫精度高,熱慣性小,溫度不過(guò)沖,性能可靠,操作簡(jiǎn)單。



中真空系統具有真空度上下限自動(dòng)控制功能,高真空系統采用高壓強,耐沖擊分子泵,防止意外漏氣造成分子泵損壞,延長(cháng)系統使用壽命。

電動(dòng))滑動(dòng)系統采用溫度控制器自動(dòng)控制爐體移動(dòng),等程序完成,爐體按設定的速度滑動(dòng),因有滑動(dòng)限位功能爐體不會(huì )發(fā)生碰撞,待樣品露出爐體后,通過(guò)風(fēng)冷系統快速降溫。

 

 如果你對該產(chǎn)品感興趣,想了解更詳細的產(chǎn)品信息,填寫(xiě)下表直接與廠(chǎng)家聯(lián)系:

留言框

  • 產(chǎn)品:

  • 您的單位:

  • 您的姓名:

  • 聯(lián)系電話(huà):

  • 常用郵箱:

  • 省份:

  • 詳細地址:

  • 補充說(shuō)明:

  • 驗證碼:

    請輸入計算結果(填寫(xiě)阿拉伯數字),如:三加四=7
掃一掃 關(guān)注我們
掃一掃 加微信
版權所有 © 2024 天津中環(huán)電爐股份有限公司  ICP備案號: 津ICP備18009408號-2
2012中文字幕免费一_亚洲无码18禁_波多野结衣无码视频一区_日本电影中文精品91